一种脉冲通孔填孔的电镀铜配方及其电镀工艺

基本信息

申请号 CN202210273777.X 申请日 -
公开(公告)号 CN114351195A 公开(公告)日 2022-04-15
申请公布号 CN114351195A 申请公布日 2022-04-15
分类号 C25D3/38(2006.01)I;C25D5/34(2006.01)I;C25D7/00(2006.01)I;H05K3/42(2006.01)I 分类 电解或电泳工艺;其所用设备〔4〕;
发明人 王江锋;姚吉豪;李云华 申请(专利权)人 深圳创智芯联科技股份有限公司
代理机构 - 代理人 -
地址 518101广东省深圳市宝安区新安街道留仙二路中粮商务公园1栋14楼1403A
法律状态 -

摘要

摘要 本发明公开了一种脉冲通孔填孔的电镀铜配方及其电镀工艺,该电镀铜配方包括以下质量浓度的组分:铜盐60‑90g/L、浓硫酸150‑200g/L、抑制剂30‑90mg/L、整平辅助剂10‑30mg/L、加速剂1‑8g/L、定位剂20‑60mg/L、分散剂15‑45mg/L、光亮剂15‑45mg/L。该发明溶液保证了通孔孔口不会出现断裂,对于孔厚径比大于15:1的板,其深镀能力大于95%,填孔板最厚可做3.5mm以上,填孔率保持在95%以上。