一种改善PTH通孔上锣沉孔或平台时扯铜的制作方法

基本信息

申请号 CN202111037164.8 申请日 -
公开(公告)号 CN113784521A 公开(公告)日 2021-12-10
申请公布号 CN113784521A 申请公布日 2021-12-10
分类号 H05K3/00 分类 其他类目不包含的电技术;
发明人 韩强;刘世杰;孙淼;马东辉;孙飞跃 申请(专利权)人 大连崇达电路有限公司
代理机构 深圳市精英专利事务所 代理人 巫苑明
地址 111600 辽宁省大连市经济技术开发区光明西街11-2号-1-3层
法律状态 -

摘要

摘要 本发明公开了一种改善PTH通孔上锣沉孔或平台时扯铜的制作方法,包括以下步骤:在生产板上需锣沉孔或平台的位置处先钻出预钻孔,所述预钻孔的尺寸单边比所述沉孔或平台的尺寸小0.1mm,且所述预钻孔的深度比所述沉孔或平台的尺寸小0.1mm;而后在生产板上的预钻孔处钻出所需的沉孔或平台。本发明方法通过增加预钻孔,且仅保留0.1mm的厚度作为二次锣时的预锣空间,解决了锣沉孔或平台时的扯铜问题。