一种超薄超高抗双面光锂电铜箔的生产方法

基本信息

申请号 CN202110762817.2 申请日 -
公开(公告)号 CN113638014B 公开(公告)日 2022-05-24
申请公布号 CN113638014B 申请公布日 2022-05-24
分类号 C25D1/04(2006.01)I;C25D3/38(2006.01)I 分类 电解或电泳工艺;其所用设备〔4〕;
发明人 曹露;黄国平;江明;张中明;李瑞强 申请(专利权)人 安徽华创新材料股份有限公司
代理机构 北京圣州专利代理事务所(普通合伙) 代理人 -
地址 244000安徽省铜陵市经济技术开发区翠湖四路西段3699号
法律状态 -

摘要

摘要 本发明公开了一种超薄超高抗双面光锂电铜箔的生产方法,包括以下步骤:配置电解液进行哈林槽打片,每次1.5L,根据多种添加剂体系要求,添加相应的添加剂,电解液参数按照要求进行,电解液浓度为1‑20ppm;哈林槽加液1.5L,添加剂按照浓度添加,充分搅拌均匀,电流26.5A,通电50s,控制槽压4.5‑5.5V,电镀结束后‑用纯水冲洗,然后用吹风机吹干;将铜箔从阴极板剥下,检测光泽度、抗拉强度,添加剂实验每批次实验结束后换液。本发明采用上述一种超薄超高抗双面光锂电铜箔的生产方法,同时提升了铜箔的常温抗拉强度及延伸率,工艺简单,6μm高抗铜箔外观无差异。