一种进气及冷却装置及气相沉积装置
基本信息
| 申请号 | CN202022403119.7 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN213977869U | 公开（公告）日 | 2021-08-17 |
| 申请公布号 | CN213977869U | 申请公布日 | 2021-08-17 |
| 分类号 | C23C16/455（2006.01）I;C23C16/44（2006.01）I;F25D17/02（2006.01）I;F25D17/08（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 陈爱华;施广涛;吕青 | 申请（专利权）人 | 中晟光电设备（上海）股份有限公司 |
| 代理机构 | 北京品源专利代理有限公司 | 代理人 | 胡彬 |
| 地址 | 201203上海市浦东新区张江高科技园区华佗路168号3幢B区 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型涉及CVD设备技术领域，具体公开了一种进气及冷却装置及气相沉积装置，该进气及冷却装置包括用于对进气进行冷却的水冷件，水冷件包括若干冷却区，冷却区内设有冷却管道，冷却管道呈蛇形排布，冷却管道包括沿设定方向间隔设置的多个冷却通道，及若干连接通道，相邻的两个冷却通道通过连接通道连通；进气及冷却装置还包括若干进水管道和若干出水管道，若干进水管道和若干出水管道均与若干冷却管道一一对应设置，冷却管道的多个冷却通道沿设定方向依次增长，最短的冷却通道和最长的冷却通道分别与出水管道和进水管道连通。以解决冷却管道路径的影响，冷却管道的流阻大，流速不同，进而导致不同部分的表面温度存在差异性的问题。 |
