一种化学气相沉积装置中的雾化结构
基本信息
| 申请号 | CN202021177952.8 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN212713750U | 公开（公告）日 | 2021-03-16 |
| 申请公布号 | CN212713750U | 申请公布日 | 2021-03-16 |
| 分类号 | C23C16/455(2006.01)I;C23C16/54(2006.01)I;C23C16/448(2006.01)I;C23C16/56(2006.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 杨毅敏;李鹏;周晴 | 申请（专利权）人 | 杭州英希捷科技有限责任公司 |
| 代理机构 | 杭州融方专利代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 沈相权 |
| 地址 | 311215浙江省杭州市萧山区萧山经济技术开发区启迪路198号C座1303室 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型公开了一种化学气相沉积装置中的雾化结构，包括工作台、漏槽、支柱和伺服电机，所述工作台顶端的一侧固定连接有主壳体，且主壳体两侧的内部皆设置有第二开槽，所述主壳体内侧的两端皆固定连接有辅助结构，所述主壳体外部顶端的一侧固定连接有控制器，所述主壳体底端内部的中间位置处均匀设置有漏槽，所述工作台底端的一侧固定连接有雾化机构，所述工作台顶端的另一侧固定连接有烘干机构，所述工作台底端的四个拐角处皆固定连接有支柱。本实用新型通过在工作台底端的一侧固定连接有雾化机构，此种喷洒方式既使得两面均匀覆盖雾液，若主壳体内部的雾气过重也可通过主壳体底端内部的漏槽流入水箱，以供其循环使用，避免浪费。 |
