一种掩膜版及其掩膜方法、制造方法、掩膜系统
基本信息
| 申请号 | CN201810181739.5 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN108388076B | 公开（公告）日 | 2021-10-01 |
| 申请公布号 | CN108388076B | 申请公布日 | 2021-10-01 |
| 分类号 | G03F1/00（2012.01）I | 分类 | 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕; |
| 发明人 | 刘浏;张鹤群;彭金宝;石鹏程;杨龙根;张伟 | 申请（专利权）人 | 合肥京东方光电科技有限公司 |
| 代理机构 | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 | 代理人 | 汪源;陈源 |
| 地址 | 100015北京市朝阳区酒仙桥路10号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种掩膜版及其掩膜方法、制造方法、掩膜系统，该掩膜版包括本体和位于本体上的第一曝光图案、第二曝光图案和位于所述第一曝光图案和所述第二曝光图案之外的遮光图案，第一曝光图案用于当第一光线照射时透光且当第二光线照射时不透光，第二曝光图案用于当第二光线照射时透光且当第一光线照射时不透光。本发明仅通过单张掩膜版即可实现多条产线的掩膜功能，有效降低了生产成本。 |
