一种低收缩高耐久型染料系偏光片及其制备方法

基本信息

申请号 CN202111214172.5 申请日 -
公开(公告)号 CN114002770A 公开(公告)日 2022-02-01
申请公布号 CN114002770A 申请公布日 2022-02-01
分类号 G02B5/30(2006.01)I;G02B1/14(2015.01)I;C08J7/00(2006.01)I;C08L29/04(2006.01)I;C09J7/29(2018.01)I;B32B27/32(2006.01)I;B32B27/06(2006.01)I;B32B7/12(2006.01)I;B32B37/12(2006.01)I;B32B38/16(2006.01)I 分类 光学;
发明人 李广鑫;曾特壕;张卓莉;陈朝晖;李中原 申请(专利权)人 深圳市盛波光电科技有限公司
代理机构 深圳市科吉华烽知识产权事务所(普通合伙) 代理人 胡吉科
地址 518000广东省深圳市坪山新区大工业区青松路8号
法律状态 -

摘要

摘要 本发明提供了一种低收缩高耐久型染料系偏光片及其制备方法,该制备方法包括:调配混合染色液,将混合染色液注入染色槽中,加入助染剂,使聚乙烯醇系薄膜在染色液中的拉伸倍率为1.5~2.0;染色助剂的质量百分比浓度为0.5~5.0%,所述混合染色液的温度为20~60℃;将聚乙烯醇系薄膜进行单轴拉伸取向,使聚乙烯醇系薄膜的拉伸倍率为1.5~2.7;将聚乙烯醇系薄膜浸渍于含有固色剂和交联剂的水溶液进行固色,拉伸倍率为0.9~1.1;对偏光膜进行干燥,干燥温度为35~70℃;将偏光膜通过胶粘剂上下贴合两层内保护膜形成层压体。采用本发明的技术方案,制备的染料系偏光片在高温高湿环境下还具有低收缩、高耐久的特性。