CMOS图像传感器、干涉型滤光片及其制备方法
基本信息
| 申请号 | CN202110343446.4 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN113093322A | 公开（公告）日 | 2021-07-09 |
| 申请公布号 | CN113093322A | 申请公布日 | 2021-07-09 |
| 分类号 | G02B5/28（2006.01）I;G03F7/00（2006.01）I;H04N5/374（2011.01）I | 分类 | 光学; |
| 发明人 | 袁恺;陈世杰 | 申请（专利权）人 | 联合微电子中心有限责任公司 |
| 代理机构 | 北京北汇律师事务所 | 代理人 | 马亚坤 |
| 地址 | 401332重庆市沙坪坝区西园一路28号附2号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种CMOS图像传感器、干涉型滤光片及其制备方法，其中，该干涉型滤光包括：第一材料层，波长调节层，第二材料层；干涉型滤光片底层设置有第一材料层；该第一材料层上方设置有波长调节层，该波长调节层用于抑制由于光的入射角不同产生的波长蓝移；该波长调节层上方设置有第二材料层。解决了现有技术中在CMOS图像传感器的边缘部分，透过波长发生明显的蓝移的问题，进而提高了多波段成像质量。 |
