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一种基于背向工艺的光栅耦合结构及制备方法

基本信息

申请号 CN202110804838.6 申请日 -
公开（公告）号 CN113359236A 公开（公告）日 2021-09-07
申请公布号 CN113359236A 申请公布日 2021-09-07
分类号 G02B6/26;G02B6/34 分类 光学;
发明人 吴月;朱继光;宁宁;潘伯津 申请（专利权）人 联合微电子中心有限责任公司
代理机构 江苏坤象律师事务所 代理人 赵新民
地址 401332 重庆市沙坪坝区西园一路28号附2号
法律状态 -

摘要

摘要 本发明提供一种基于背向工艺的光栅耦合结构，通过在波导衍射光栅层上设置非金属结构反射镜层，极大地提高光栅的耦合效率，减小光栅‑光纤耦合损耗。反射镜层采用至少一个分布式布拉格反射镜结构或光栅反射镜结构，没有金属吸收的问题，更耐高温，与传统的光学器件更兼容而不会引起不必要的损耗，且不存在金属反射镜后段工艺污染问题；本发明还提供的一种基于背向工艺的光栅耦合结构的制备方法，采用标准晶圆为初始晶圆，单步刻蚀工艺简单，通过单次沉积刻蚀即可满足更大带宽的光耦合反射需求；在不影响原有架构的基础上，根据设计需求可灵活满足不同波段的反射高度需求从而具有相应优势。