一种新型用于半导体生产的打磨装置

基本信息

申请号 CN202010607801.X 申请日 -
公开(公告)号 CN111702655B 公开(公告)日 2021-10-01
申请公布号 CN111702655B 申请公布日 2021-10-01
分类号 B24B37/10(2012.01)I;B24B37/30(2012.01)I;B24B37/34(2012.01)I;B24B47/12(2006.01)I;B24B47/20(2006.01)I 分类 磨削;抛光;
发明人 殷泽安;许同 申请(专利权)人 东莞市译码半导体有限公司
代理机构 北京高航知识产权代理有限公司 代理人 王卓
地址 523581 广东省东莞市常平镇卢屋村创业二路3号
法律状态 -

摘要

摘要 本发明公开了一种新型用于半导体生产的打磨装置,包括半导体打磨机构,所述半导体打磨机构包括电机、电动伸缩杆和半导体片,所述半导体打磨机构还包括固定主体、固定架、打磨主体、转盘和安装主体,所述固定架的下端固定安装在固定主体的上端,所述打磨主体的上端固定连接在固定架上端内侧,所述转盘的下端外壁与固定主体滑动接触,所述转盘的下端中心固定连接在电机的转子上端,所述安装主体的下端滑动插接安装在固定主体的上端,所述电机、电动伸缩杆和半导体片匀通过外接电源电性连接,所述电机的外壳通过固定主体固定安装,所述电动伸缩杆的上端通过固定架固定安装。本发明能够提高空间利用率,同时保障了打磨质量,更好的满足使用需要。