PDLC膜电极制作方法、负压平台及PDLC膜
基本信息
| 申请号 | CN202011470771.9 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN112596291A | 公开（公告）日 | 2021-04-02 |
| 申请公布号 | CN112596291A | 申请公布日 | 2021-04-02 |
| 分类号 | G02F1/1334(2006.01)I;G02F1/1343(2006.01)I | 分类 | 光学; |
| 发明人 | 吴永隆;李炳宏;何文斌;孙瑞 | 申请（专利权）人 | 太仓隆昇光电技术有限公司 |
| 代理机构 | 北京超凡宏宇专利代理事务所（特殊普通合伙） | 代理人 | 张伟 |
| 地址 | 215400江苏省苏州市太仓市科教新城健雄路20号4号楼 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明提供了一种PDLC膜电极制作方法、负压平台及PDLC膜，涉及电极加工技术领域，该PDLC膜电极制作方法包括以下步骤：使PDLC膜的待加工面朝上放置于负压平台，并使PDLC膜的待加工面的液晶活化区域与负压平台的透明区域相重合，其他区域与负压平台的金属材质区域相重合；活化PDLC膜的液晶层；根据半切断区域，切割并撕下位于液晶层上面的PET层和导电层，将活化后的液晶层清扫掉露出位于液晶层下面的导电层，以形成相应的电极。解决了现有技术中存在的电极制作方法的生产产量较低的技术问题，达到了提高生产产量的技术效果。 |
