一种手机3D LOGO蚀刻用含二氧化硅的保护油墨
基本信息
| 申请号 | CN201810677785.4 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN108864818B | 公开（公告）日 | 2021-08-24 |
| 申请公布号 | CN108864818B | 申请公布日 | 2021-08-24 |
| 分类号 | C09D11/107;C09D11/102;C09D11/106;C09D11/03 | 分类 | 染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用; |
| 发明人 | 吴建勇;向中华 | 申请（专利权）人 | 安徽金龙浩光电科技有限公司 |
| 代理机构 | 合肥市长远专利代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 傅磊 |
| 地址 | 233000 安徽省蚌埠市淮上区淮海路333号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种手机3D LOGO蚀刻用含二氧化硅的保护油墨，其原料按重量份包括：邻烷基酚醛环氧丙烯酸树脂30‑45份、酸酐改性丙烯酸羟乙酯10‑22份、聚乙烯醇肉桂酸酯3‑12份、环氧树脂8‑12份、二缩三丙二醇二丙烯酸酯2‑9份、2‑苯氧基乙基丙烯酸酯1‑3份、2,2‑二甲氧基‑2‑苯基苯乙酮1‑4份、二氧化硅2‑11份、纳米二氧化钛1‑3份、超细硫酸钡1‑3份、聚四氟乙烯微粉2‑7份、阻聚剂0.01‑0.05份、助剂0.2‑0.8份、溶剂3‑15份。本发明提出的手机3D LOGO蚀刻用含二氧化硅的保护油墨，与基材的附着力高，耐酸不耐碱，脱膜快，保护制作的3D LOGO线条清晰，分辨率高。 |
