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一种抛光装置

基本信息

申请号	CN202111638083.3	申请日	-
公开（公告）号	CN114131490A	公开（公告）日	2022-03-04
申请公布号	CN114131490A	申请公布日	2022-03-04
分类号	B24B29/00（2006.01）I;B24B41/02（2006.01）I;B24B41/04（2006.01）I;B24B47/22（2006.01）I	分类	磨削；抛光;
发明人	袁凤刚;董俊福;阚振勇	申请（专利权）人	哈尔滨安宇迪航空工业有限公司
代理机构	北京隆源天恒知识产权代理有限公司	代理人	徐苏明
地址	150000黑龙江省哈尔滨市平房区星海路15号
法律状态	-

摘要

本发明提供一种抛光装置，涉及抛光技术领域。抛光装置包括机架、抛光机构、限位机构、施力机构和第一轮，所述第一轮设置于所述机架的底部；所述抛光机构与所述机架连接，所述施力机构与所述机架或所述抛光机构活动连接，且连接处和所述抛光机构的抛光机均位于所述第一轮的同一侧，所述施力机构包括支撑轮，所述支撑轮远离所述机架设置；所述限位机构与所述机架连接，所述限位机构适于限定所述机架绕所述第一轮向下运动的位移。该抛光装置可以在抛光面行走，抛光装置的运动稳定且连续，其抛光形成的抛光面一致性较高，无需使用者时刻判断抛光是否合格，作业难度低，作业效率相对较高，在大型抛光面如曲面抛光中适用性好，能够取得较好的抛光效果。