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一种半导体外延片生长的CVD石墨托盘

基本信息

申请号 CN201821531271.X 申请日 -
公开（公告）号 CN209128590U 公开（公告）日 2019-07-19
申请公布号 CN209128590U 申请公布日 2019-07-19
分类号 C30B25/12（2006.01）I; C30B29/36（2006.01）I 分类 晶体生长〔3〕;
发明人 凌杰 申请（专利权）人 昆山米克诺精密机械有限公司
代理机构 - 代理人 -
地址 215300 江苏省苏州市昆山市花桥经济开发区横塘路56-1号
法律状态 -

摘要

摘要 本实用新型公开了一种半导体外延片生长的CVD石墨托盘,包括支架及培养盘，所述支架顶部胶接有第一托盘，所述第一托盘材质为石墨，第一托盘顶部开设有第一槽口，第一槽口内胶接有顶杆，所述顶杆顶部中心轴处焊接有空心管，所述空心管内壁底部中心轴处焊接有转动杆，所述转动杆顶部设置有第二圆锥齿轮，所述空心管横截面为正方形，综上所述，此实用新型分为上下两层结构，便于工作科研人员一次培养数量较多的产品，且装置所占空间不是很大，可以调节高度，且此装置培养盘可快速更换，提高了生产效率，另外此装置使用寿命长，且装置外形可根据客户要求定制。