阵列基板及其制备方法、显示装置
基本信息
| 申请号 | CN202110677096.5 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN113410276A | 公开（公告）日 | 2021-09-17 |
| 申请公布号 | CN113410276A | 申请公布日 | 2021-09-17 |
| 分类号 | H01L27/32（2006.01）I | 分类 | 基本电气元件; |
| 发明人 | 李杰;张伟;郭钟旭;李存智;陈昱伶 | 申请（专利权）人 | 重庆京东方显示技术有限公司 |
| 代理机构 | 北京律智知识产权代理有限公司 | 代理人 | 王辉;阚梓瑄 |
| 地址 | 100015北京市朝阳区酒仙桥路10号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本公开提供一种阵列基板及其制备方法、显示装置，属于显示技术领域。本公开提供的阵列基板包括依次层叠设置的衬底基板、像素层、有机层和彩膜层。其中，像素层包括第一子像素、第二子像素和第三子像素；有机层远离衬底基板的表面设置有与第一子像素交叠的第一凹槽；彩膜层包括与第一子像素交叠的第一色阻单元、与第二子像素交叠的第二色阻单元和与第三子像素交叠的第三色阻单元；其中，第一色阻单元至少部分容置于第一凹槽中。本公开提供的阵列基板，能够提高阵列基板的显示质量。 |
