一种阵列基板、制备方法以及显示装置
基本信息
| 申请号 | CN202110727811.1 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN113451207A | 公开（公告）日 | 2021-09-28 |
| 申请公布号 | CN113451207A | 申请公布日 | 2021-09-28 |
| 分类号 | H01L21/77（2017.01）I;H01L27/12（2006.01）I;H01L27/32（2006.01）I | 分类 | 基本电气元件; |
| 发明人 | 全祥皓;赵志伟;肖喻钊;戴文连;任佳艺;朴海兰 | 申请（专利权）人 | 重庆京东方显示技术有限公司 |
| 代理机构 | 北京正理专利代理有限公司 | 代理人 | 李泽彦 |
| 地址 | 100015北京市朝阳区酒仙桥路10号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明实施例公开一种阵列基板、制备方法以及显示装置。在一具体实施方式中，该阵列基板包括多个薄膜晶体管，该阵列基板的制备方法包括在衬底上形成图案化的有源材料层，图案化的有源材料层包括待形成的薄膜晶体管的沟道区以及对应薄膜晶体管的源漏电极的非沟道区；在衬底上形成金属层，金属层使得多个薄膜晶体管的非沟道区电连接；在金属层和图案化的有源材料层上形成栅极绝缘层、栅极以及与非沟道区电连接的源漏电极，以形成多个薄膜晶体管。该实施方式的制备方法通过形成与多个薄膜晶体管的非沟道区电连接的金属层，从而降低制备得到的阵列基板的薄膜晶体管之间的电流电阻，改善薄膜晶体管之间的电流移动。 |
