掩膜板及其制作方法、OLED显示基板的制作方法
基本信息
| 申请号 | CN201910690971.6 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN110453173B | 公开（公告）日 | 2021-09-21 |
| 申请公布号 | CN110453173B | 申请公布日 | 2021-09-21 |
| 分类号 | C23C14/04（2006.01）I;C23C14/12（2006.01）I;C23C14/24（2006.01）I;H01L51/00（2006.01）I;H01L51/56（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 金熙哲;陈腾;孟维欣 | 申请（专利权）人 | 重庆京东方显示技术有限公司 |
| 代理机构 | 北京银龙知识产权代理有限公司 | 代理人 | 许静;胡影 |
| 地址 | 100015北京市朝阳区酒仙桥路10号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明提供一种掩膜板及其制作方法、OLED显示基板的制作方法，该掩膜板包括：掩膜板本体，所述掩膜板本体上开设有多个蒸镀孔；多个阻挡环，设置于所述掩膜板本体上，与所述多个蒸镀孔一一对应，围设在对应的所述蒸镀孔的周围。当采用本发明的掩膜板向待蒸镀基板蒸镀有机发光材料时，在蒸镀过程中，从蒸镀孔内通过的有机发光材料会被阻挡环阻挡，减少或者避免有机发光材料向蒸镀孔正对区域以外的区域扩散，减少了蒸镀阴影的面积，从而可避免相邻的不同颜色的有机发光层交叉污染。 |
