子掩膜版以及掩膜版
基本信息
| 申请号 | CN201910932119.5 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN110484864B | 公开（公告）日 | 2021-09-10 |
| 申请公布号 | CN110484864B | 申请公布日 | 2021-09-10 |
| 分类号 | C23C14/04;C23C14/12;C23C14/24;H01L51/56 | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 陈腾;陈奎;孟维欣;李杰 | 申请（专利权）人 | 重庆京东方显示技术有限公司 |
| 代理机构 | 北京安信方达知识产权代理有限公司 | 代理人 | 解婷婷;曲鹏 |
| 地址 | 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明实施例提供一种子掩膜版以及掩膜版，该子掩膜版包括衬底以及设置在所述衬底上的掩膜图案，所述掩膜图案包括至少一个与所述子掩膜版的拉伸方向朝向不同的第一角部，以及至少一个与所述子掩膜版的拉伸方向朝向相同的第二角部，所述第一角部为圆角，所述第二角部为倒角；该子掩膜版能够降低张网过程中的褶皱高度，提高子掩膜版的蒸镀效果。 |
