一种高强度减反膜系结构
基本信息
| 申请号 | CN201110434960.5 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN103176225A | 公开（公告）日 | 2013-06-26 |
| 申请公布号 | CN103176225A | 申请公布日 | 2013-06-26 |
| 分类号 | G02B1/11(2006.01)I;B32B33/00(2006.01)I;B32B9/04(2006.01)I | 分类 | 光学; |
| 发明人 | 叶祥云;汤士博 | 申请（专利权）人 | 凤凰光学（上海）有限公司 |
| 代理机构 | 上海新天专利代理有限公司 | 代理人 | 王敏杰 |
| 地址 | 200001 上海市嘉定区胜辛北路2199号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明提供了一种高强度减反射膜系结构，包括基材S-FPL51和镀在基材上的AR膜。其中AR膜是一种减反膜，从内到外包括九层膜结构：第一低折射率膜（L1）、中折射率膜（M）、第二低折射率膜（L2）、第一高折射率膜（H1）、第三低折射率膜（L3）、第二高折射率膜（H2）、第四低折射率膜（L4）、第三高折射率膜（H3）、第五低折射率膜（L5）。本发明所述高强度减反射膜系结构耐高温，能长久使用，对极端环境要求下的光学仪器性能稳定提供了一中生存可能，为光学镜片设计和制造提供便利。 |
