一种单晶加料装置
基本信息
| 申请号 | CN202120362748.1 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN215163311U | 公开（公告）日 | 2021-12-14 |
| 申请公布号 | CN215163311U | 申请公布日 | 2021-12-14 |
| 分类号 | C30B35/00（2006.01）I;C30B29/06（2006.01）I | 分类 | 晶体生长〔3〕; |
| 发明人 | 高文飞 | 申请（专利权）人 | 云南宇泽半导体有限公司 |
| 代理机构 | 南京经纬专利商标代理有限公司 | 代理人 | 王美章 |
| 地址 | 675099云南省楚雄彝族自治州楚雄市鹿城镇阳光大道楚风苑南门东侧 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型公开了一种单晶加料装置，属于单晶硅技术领域。它包括炉体，其侧面开设有侧加料口；还包括外置加料机，其包括：基座；真空腔室，其滑动置于基座顶面，真空腔室上设有真空泵，内底部设有振动发生器；加料仓，其顶部与底部均开口，置于真空腔室上方，加料仓底部穿过真空腔室顶部的开口并伸入真空腔室中；波纹管，其可伸缩，真空腔室侧壁开口并与波纹管一端连通；加料盒，其一端置于真空腔室内的振动发生器上，进料口连通加料仓底部的开口；加料盒另一端穿过真空腔室侧壁开口并可从波纹管另一端伸出。本实用新型的装置加料效率高，加料过程中炉体内部压力变化波动小，且炉体内热量散失小，具有结构简单、设计合理、易于制造的优点。 |
