一种用于半导体湿法工艺的混酸系统
基本信息
| 申请号 | CN202023322381.5 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN215586009U | 公开（公告）日 | 2022-01-21 |
| 申请公布号 | CN215586009U | 申请公布日 | 2022-01-21 |
| 分类号 | B01F23/40（2022.01）I;B01F35/83（2022.01）I | 分类 | 一般的物理或化学的方法或装置; |
| 发明人 | 邓信甫;李志锋;徐铭;陈佳炜;刘大威 | 申请（专利权）人 | 上海至纯洁净系统科技股份有限公司 |
| 代理机构 | 上海智力专利商标事务所（普通合伙） | 代理人 | 杜冰云;周涛 |
| 地址 | 200241上海市闵行区紫海路170号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型公开了一种用于半导体湿法工艺的混酸系统，包括槽式湿法清洗设备和混酸装置，混酸装置包括壳体，分别设置在壳体内部不同腔室内的气路单元和液路单元；所述气路单元用以控制液路单元的管路压力；所述液路单元包括多个进液管、混液阀、排液管和出液管，进液管用于将不同液体输送入混液阀进行瞬时混合，多个进液管并联连接至混液阀的进液口；排液管和出液管分别连接至混液阀的出液口，出液管用于将混液阀内混合均匀的混合液输送至所述槽式湿法清洗设备的清洗槽中。本实用新型能够精确控制湿法清洗溶液中的混酸浓度，提高了发应性溶液的配比精度，同时也能大大提高反应性溶液的配比效率。 |
