一种可延长的靶管旋转磁控柱弧靶
基本信息
| 申请号 | CN201520244535.3 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN204644454U | 公开（公告）日 | 2015-09-16 |
| 申请公布号 | CN204644454U | 申请公布日 | 2015-09-16 |
| 分类号 | C23C14/35(2006.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 鄢强;宋慧瑾 | 申请（专利权）人 | 四川宇戕科技有限公司 |
| 代理机构 | 成都正华专利代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 成都金倍科技有限公司;北京天元恒泰环保科技有限公司 |
| 地址 | 610000 四川省成都市高新区高朋大道5号A座2楼公共秘书平台A-348位 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型公开了一种可延长的靶管旋转磁控柱弧靶，包括靶座，传动部，分水套，靶体，防水罩，磁轴和靶体连接支承部；大法兰下部有屏蔽罩，上部有绝缘密封套、轴套、压垫、铜鼻、绝缘压环、推力球轴承、限位半环、环套、绝缘环、支承板、聚四氟乙烯垫环、分水套；靶体包括靶管和端盖；防水罩包括不锈钢圆管和密封垫；磁轴包含磁轭和磁体，磁轴中的磁场区被密封在防水罩内；靶体连接支承部有中间连接支承部和尾端连接支承部。本实用新型的可无限延长靶管旋转磁控柱弧靶是真空镀膜机上的核心零件，它使得一次性对极大或极长的特殊产品或零部件进行真空镀膜或涂层等表面处理变得真正现实可行。 |
