一种靶管旋转磁控柱弧靶
基本信息
| 申请号 | CN201520244401.1 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN204644452U | 公开（公告）日 | 2015-09-16 |
| 申请公布号 | CN204644452U | 申请公布日 | 2015-09-16 |
| 分类号 | C23C14/35(2006.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 鄢强;宋慧瑾 | 申请（专利权）人 | 四川宇戕科技有限公司 |
| 代理机构 | 成都正华专利代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 李林合 |
| 地址 | 610000 四川省成都市高新区高朋大道5号A座2楼公共秘书平台A-348位 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型公开了一种靶管旋转磁控柱弧靶，包括分水套，靶座，靶体，防水罩，磁轴；分水套内上部有带支架限位分水环，下部为轴封组；大法兰下部有屏蔽罩，上部安装有绝缘密封套，绝缘密封套上设有轴套；轴套内装有轴封组和调心轴承；轴套上有压垫、铜鼻固定在压垫上；推力球轴承上有两限位半环及环套；传动齿轮通过绝缘环与靶管上端绝缘；电机支承板安装在大法兰上，同时支承电机和分水套；靶体由结构对称的靶管和用于密封水的端盖组成；磁轴包含磁轭和装配在其上的磁体，磁轴中的磁场区被密封在防水罩内。本装置靶材利用率提高；极大地降低故障率，延长单次使用寿命；结构简单，方便装配及检修；融入一体化设计理念，利于快捷整体更换靶。 |
