一种全封闭多功能复合渗注镀膜机
基本信息
| 申请号 | CN201520244448.8 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN204644461U | 公开（公告）日 | 2015-09-16 |
| 申请公布号 | CN204644461U | 申请公布日 | 2015-09-16 |
| 分类号 | C23C14/48(2006.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 鄢强;宋慧瑾 | 申请（专利权）人 | 四川宇戕科技有限公司 |
| 代理机构 | 成都正华专利代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 成都金倍科技有限公司;北京天元恒泰环保科技有限公司;四川宇戕科技有限公司 |
| 地址 | 610000 四川省成都市高新区高朋大道5号A座2楼公共秘书平台A-348位 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型公开了一种全封闭多功能复合渗注镀膜机，包括真空室、真空获得系统、圆柱靶、离子源、工件偏压、行星式公自转架、遮挡机构、气体输入机构、加热机构和专用电源等。三个及以上的圆柱靶以可镀工件区的中心为圆心均匀分布成单圆环、中心单圆环或双圆环；圆柱靶内磁轭上至少均布有三列磁铁，每个磁轭上磁铁的N级和S级间隔放置，相邻柱靶内磁轭上的近邻磁极相反。配置上离子源、工件偏压、行星式公自转架、遮挡机构后能形成几乎覆盖整个真空室的均匀等离子体区，从而使得所制备的薄膜或涂层的组织、结构、形貌、性能等得到明显改善。并能实现连续的等离子体渗入、注入以及多元多层复合镀膜或涂层工艺，降低成本。 |
