一种磁场旋转磁控柱弧靶
基本信息
| 申请号 | CN201520244431.2 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN204644453U | 公开（公告）日 | 2015-09-16 |
| 申请公布号 | CN204644453U | 申请公布日 | 2015-09-16 |
| 分类号 | C23C14/35(2006.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 鄢强;宋慧瑾 | 申请（专利权）人 | 四川宇戕科技有限公司 |
| 代理机构 | 成都正华专利代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 成都金倍科技有限公司;北京天元恒泰环保科技有限公司;四川宇戕科技有限公司 |
| 地址 | 610000 四川省成都市高新区高朋大道5号A座2楼公共秘书平台A-348位 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型公开了一种磁场旋转磁控柱弧靶，包括靶座，分水套，传动机构，靶体，防水罩和磁轴。靶座包括大法兰，以及大法兰下部连接的屏蔽罩，大法兰上部的密封环、密封座和绝缘压环；分水套含带支架分水环、密封轴座，以及密封轴座的电极连接片和密封轴座内的带动磁芯部旋转轴；磁轴包括磁轭和装配在其槽内的磁体；防水罩由不锈钢圆管和两端可拆卸密封垫将磁轭的上下端密封；靶体由结构对称的靶材和用于密封水的端盖组成；电机带动大小齿轮传动组，进而带动磁轴匀速旋转。使用上述结构的磁场旋转磁控柱弧靶，有益于靶材利用率提高；极大地降低故障率，延长单次使用寿命；结构简单，方便装配及检修；融入一体化设计理念，利于快捷更换靶。 |
