一种微透镜阵列的制备方法及晶圆
基本信息
| 申请号 | CN202110826074.0 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN113419301A | 公开（公告）日 | 2021-09-21 |
| 申请公布号 | CN113419301A | 申请公布日 | 2021-09-21 |
| 分类号 | G02B3/00（2006.01）I;G03F7/00（2006.01）I;H01S5/02253（2021.01）I;H01S5/183（2006.01）I | 分类 | 光学; |
| 发明人 | 焦继伟;陈思奇 | 申请（专利权）人 | 上海芯物科技有限公司 |
| 代理机构 | 北京晋德允升知识产权代理有限公司 | 代理人 | 王戈;郑玢 |
| 地址 | 201800上海市嘉定区皇庆路333号3幢北楼3层 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本说明书实施例公开了一种微透镜阵列的制备方法，用于在晶圆表面制备微透镜阵列，包括：在所述晶圆表面形成SU‑8光刻胶层；在所述SU‑8光刻胶层的表面形成正性光刻胶微柱阵列；对所述正性光刻胶微柱阵列进行热回流处理，以在所述SU‑8光刻胶层的表面形成非球面形状结构阵列，所述非球面形状结构阵列作为所述SU‑8光刻胶层的刻蚀掩膜；对所述SU‑8光刻胶层和所述非球面形状结构阵列进行刻蚀，直至去除所述非球面形状结构阵列，以将所述非球面形状结构阵列的形状转移至所述SU‑8光刻胶层的表面上，从而在所述晶圆表面形成SU‑8材质的微透镜阵列。 |
