一种等离子体化学气相沉积镀膜装置
基本信息
| 申请号 | CN201620206505.8 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN205443446U | 公开（公告）日 | 2016-08-10 |
| 申请公布号 | CN205443446U | 申请公布日 | 2016-08-10 |
| 分类号 | C23C16/50(2006.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 渠洪波 | 申请（专利权）人 | 沈阳科友真空技术有限公司 |
| 代理机构 | - | 代理人 | - |
| 地址 | 110000 辽宁省沈阳市苏家屯区沙河铺镇鲍家村 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型提供一种等离子体化学气相沉积镀膜装置，涉及技术领域。该实用新型包括真空室，真空室内设置有阴极屏、工件架和偏压电源，阴极屏设置在真空室的下部，工件架设置在阴极屏上，偏压电源设置在真空室外部，偏压电源包括第一偏压电源和第二偏压电源，第一偏压电源与阴极屏连接，第二偏压电源与工件台连接，真空室接地。本实用新型结构简单、易于制造、成本低廉，提高了生产效率，降低了生产成本，具有极大的生产实践意义。 |
