一种真空磁控溅射彩镀设备
基本信息
| 申请号 | CN200910012996.7 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN101988187B | 公开（公告）日 | 2012-11-07 |
| 申请公布号 | CN101988187B | 申请公布日 | 2012-11-07 |
| 分类号 | C23C14/35(2006.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 渠洪波 | 申请（专利权）人 | 沈阳科友真空技术有限公司 |
| 代理机构 | 沈阳科苑专利商标代理有限公司 | 代理人 | 俞鲁江 |
| 地址 | 110111 辽宁省沈阳市苏家屯区沙河铺镇鲍家 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开一种真空磁控溅射彩镀设备，为了消除成膜时复杂外形产品的阴影区，改善产品表面成膜均匀性，一方面，采用行星齿轮结构悬挂杆完成工件的公转和自转，另一方面，在样品悬挂架(8)的上下两侧，柱状磁控靶之间安装有对称的补偿斜靶，由于样品架加载偏压，故磁控靶靶材成膜材料可以从多方向沉积到产品基片上。通过联合应用多功能样品悬挂架和补偿斜靶，可以有效的消除镀膜死角，提高成膜质量，可镀制复杂外形的产品基片。 |
