一种干簧管继电器触点用多层膜结构及其制备方法
基本信息
| 申请号 | CN201910777713.1 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN110541150A | 公开（公告）日 | 2019-12-06 |
| 申请公布号 | CN110541150A | 申请公布日 | 2019-12-06 |
| 分类号 | C23C14/35（2006.01）; C23C14/16（2006.01）; C23C14/06（2006.01）; H01H49/00（2006.01） | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 林成福; 渠帅 | 申请（专利权）人 | 沈阳科友真空技术有限公司 |
| 代理机构 | 北京弘权知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 逯长明;许伟群 |
| 地址 | 110000 辽宁省沈阳市苏家屯区沙河铺镇鲍家村 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种干簧管继电器触点用多层膜结构及其制备方法，该多层膜结构由基体上依次沉积的钼底层、渐变涂层、硬质涂层以及纳米涂层构成，由于其以表层的纳米层作为疲劳磨损层，可实现与低硬度膜层具有相同的表面接触面积，减小接触疲劳磨损，而纳米涂层以下的硬质涂层可满足无疲劳磨损的性能要求，进而使该多层膜结构在使用过程中能够保持稳定的低接触电阻。该多层膜结构采用非平衡磁控直流或脉冲溅射方式制备，利用电磁场控制的等离子增强反应性，实现具有离子镀特点的触点磁控溅射镀膜工艺，具有操作简单，制备的多层膜结构性能佳等优点。 |
