一种用于PVD预清洁腔的中央供气顶盖结构专利查询专利号|摘要-满商公司网

一种用于PVD预清洁腔的中央供气顶盖结构

基本信息

申请号	CN202123399095.3	申请日	-
公开（公告）号	CN216891165U	公开（公告）日	2022-07-05
申请公布号	CN216891165U	申请公布日	2022-07-05
分类号	C23C14/02（2006.01）I;H01L21/67（2006.01）I	分类	对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕;
发明人	王蜀豫	申请（专利权）人	杭州晶通科技有限公司
代理机构	南京苏高专利商标事务所（普通合伙）	代理人	-
地址	311121浙江省杭州市余杭区文一西路1217号IT公园1号楼
法律状态	-

摘要

本实用新型公开了一种用于PVD预清洁腔的中央供气顶盖结构，包括可通过设置于预清洁腔体一侧的铰链侧向打开的可开合顶盖，顶盖中央设有能够导通到预清洁腔体内的气孔，顶盖上表面上设有环绕在气孔周向的磁铁环形阵列，气孔通过转接管道连接到远离顶盖铰链侧的在顶盖上竖向设置的第一气孔通道，在顶盖的下表面还设有能够和顶盖进行开合配合的形状大小完全相同的高度调节块，高度调节块为环形，中央为能够和顶盖中央气孔配合的环形通道，对应于顶盖上第一气孔通道的位置，在高度调节块上设置能够连通高度调节块上表面和远离顶盖铰链的侧壁面的L型的第二气孔通道。本实用新型通过将进气管道布置在预清洁反应腔顶盖中央，大幅提高预清洁的均匀性。