一种外延设备冷却系统和方法
基本信息
| 申请号 | CN202210108042.1 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN114481314A | 公开（公告）日 | 2022-05-13 |
| 申请公布号 | CN114481314A | 申请公布日 | 2022-05-13 |
| 分类号 | C30B25/16（2006.01）I;C30B25/20（2006.01）I;C30B29/06（2006.01）I | 分类 | 晶体生长〔3〕; |
| 发明人 | 席勇;王力 | 申请（专利权）人 | 西安奕斯伟材料科技股份有限公司 |
| 代理机构 | 西安维英格知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | - |
| 地址 | 710100陕西省西安市高新区西沣南路1888号1-3-029室 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明实施例公开了一种外延设备冷却系统和方法，该系统包括：加热模块，所述加热模块经配置为能够以不同的加热功率向外延片进行热辐射；控制模块，用于当所述外延片的上表面测量温度和下表面测量温度之间的温度差大于预设阈值时，向所述加热模块发送控制信号以控制所述加热模块的功率使得所述温度差小于所述预设阈值。通过控制模块和加热模块保障外延片的上表面测量温度与下表面测量温度的温度差在合理范围内，有效减小了外延片的边缘应力，获得符合工艺要求的外延片。 |
