一种硅片边缘抛光装置
基本信息
申请号 | CN202123355342.X | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN216542412U | 公开(公告)日 | 2022-05-17 |
申请公布号 | CN216542412U | 申请公布日 | 2022-05-17 |
分类号 | B24B9/06(2006.01)I;B24B29/02(2006.01)I;B24B57/02(2006.01)I;B24B41/06(2012.01)I | 分类 | 磨削;抛光; |
发明人 | 聂阳 | 申请(专利权)人 | 西安奕斯伟材料科技股份有限公司 |
代理机构 | 西安维英格知识产权代理事务所(普通合伙) | 代理人 | - |
地址 | 710100陕西省西安市高新区西沣南路1888号1-3-029室 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本实用新型公开了一种硅片边缘抛光装置,所述边缘抛光装置用于抛光位于硅片边缘处的缺口,所述抛光装置包括:夹具,所述夹具以所述硅片的端面在竖直平面内的方式夹持所述硅片;用于抛光所述缺口的研磨垫,所述研磨垫在水平面内绕中心轴线旋转;布置在所述研磨垫上方的抛光液供给模块,所述抛光液供给模块向所述缺口提供抛光液。所述装置通过夹具在竖直平面内接收硅片以及研磨垫在水平面内旋转的结构防止抛光液流到硅片表面,从而避免引起粗糙度异常、金属污染以及颗粒残留等品质问题。 |
