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一种双面基板对位曝光机

基本信息

申请号 CN201920450991.1 申请日 -
公开（公告）号 CN210075726U 公开（公告）日 2020-02-14
申请公布号 CN210075726U 申请公布日 2020-02-14
分类号 H05K3/06;G03F7/20 分类 其他类目不包含的电技术;
发明人 汤志权;周正 申请（专利权）人 金悦通电子（翁源）有限公司
代理机构 广州浩泰知识产权代理有限公司 代理人 金悦通电子（翁源）有限公司
地址 512627 广东省韶关市翁源县翁城镇翁城工业园
法律状态 -

摘要

摘要 本实用新型提供了一种双面基板对位曝光机，包括机架、曝光光源结构架、载片台和水冷式散热器；所述机架的上下两端都设置有所述曝光光源结构架，所述曝光光源结构架的内部设有LED光源，所述LED光源与所述水冷式散热器相连设置，所述曝光光源结构架之间设有所述载片台，所述载片台设有玻璃凹槽，所述载片台的正上方设有盖板，所述盖板与所述机架滑动连接，所述盖板与所述载片台靠近所述机架的一端设有伸缩杆，所述盖板设有玻璃凸起台；所述机架上下两端都设有LED光源以及设有所述玻璃凹槽和所述玻璃凸起台，使得基板可以双面曝光，所述玻璃凹槽更是把基板固定在所述玻璃凹槽内部，即对基板进行了对位定位。