一种样品托、样品托组件及等离子体化学气相沉积设备
基本信息
| 申请号 | CN202120203772.0 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN214383795U | 公开（公告）日 | 2021-10-12 |
| 申请公布号 | CN214383795U | 申请公布日 | 2021-10-12 |
| 分类号 | C23C16/458（2006.01）I;C23C16/50（2006.01）I;C23C16/46（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 黄春林;胡宗义;季宇 | 申请（专利权）人 | 成都纽曼和瑞微波技术有限公司 |
| 代理机构 | 北京卓恒知识产权代理事务所（特殊普通合伙） | 代理人 | 孔鹏 |
| 地址 | 610000四川省成都市成华区龙潭总部经济城华冠路192号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型提供了一种样品托、样品托组件及等离子化学气相沉积设备，属于等离子体设备领域。样品托组件包括基底及样品托，基体上设置有安装凹槽，样品托固定设置在安装凹槽中。上述样品托包括一体成型的样品托本体及导热凸台，导热凸台设置在样品托本体的底面。使用时，导热凸台与基底直接或间接接触。由于样品托中心温度高于边缘温度，而样品托中心的热量可以通过导热凸台传递到基底上，进而提高样品托的温度均匀性，提高固态膜的品质。 |
