一种腔盖、腔体以及等离子体化学气相沉积设备
基本信息
| 申请号 | CN202023349053.4 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN214168124U | 公开（公告）日 | 2021-09-10 |
| 申请公布号 | CN214168124U | 申请公布日 | 2021-09-10 |
| 分类号 | C23C16/511（2006.01）I;C23C16/52（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 刘文科;黄春林;胡宗义 | 申请（专利权）人 | 成都纽曼和瑞微波技术有限公司 |
| 代理机构 | 北京卓恒知识产权代理事务所（特殊普通合伙） | 代理人 | 孔鹏 |
| 地址 | 610000四川省成都市成华区龙潭总部经济城华冠路192号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本申请公开了一种腔盖、腔体以及等离子体化学气相沉积设备，属于微波电磁聚焦技术领域，腔盖包括主体和覆盖片，主体包括至少两个同轴的腔体，这些腔体的直径沿他们的轴线方向依次增大；在主体的外壁上设置有供冷却水流动的第一凹槽，覆盖片与主体可拆卸连接。本实用新型公开的上腔体利用阶梯状的腔体进行配合，能够高效增强微波功率的耦合，极大地提高了谐振腔内微波电场的聚焦能力；供冷却水经过的第一凹槽直接设置在主体上，冷却水与腔体之间的间隔距离小，冷却效果较佳，且覆盖片与主体之间为可拆卸配合，可以随时对第一凹槽进行清理，避免水垢将第一凹槽堵塞，从而保证对主体冷却的高效性。 |
