一种等离子体设备主机及气相沉积系统
基本信息
| 申请号 | CN202023340263.7 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN214168123U | 公开（公告）日 | 2021-09-10 |
| 申请公布号 | CN214168123U | 申请公布日 | 2021-09-10 |
| 分类号 | C23C16/511（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 季宇;刘文科;季天仁 | 申请（专利权）人 | 成都纽曼和瑞微波技术有限公司 |
| 代理机构 | 北京卓恒知识产权代理事务所（特殊普通合伙） | 代理人 | 孔鹏 |
| 地址 | 610000四川省成都市成华区龙潭总部经济城华冠路192号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型提供了一种等离子体设备主机及微波等离子体化学气相沉积系统，属于微波技术领域。上述等离子体设备主机包括机架、真空腔基座、腔盖及升降装置；真空腔基座与机架连接，真空腔基座的中部设置有样品基片台；腔盖能够与真空基座进行密封配合。升降装置的底部与机架连接，上部与腔盖连接，升降装置能够带动腔盖上下移动。使用时，通过操作升降装置起吊或下降，从而将腔盖打开或扣合在真空腔基座上。采用上述升降装置后，其不仅提高了工作效率，还降低了操作人员的劳动强度。 |
