掩模版、光刻装置、掩模版的制造方法和基于掩模版的光刻方法
基本信息
| 申请号 | CN202210373932.5 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN114690534A | 公开（公告）日 | 2022-07-01 |
| 申请公布号 | CN114690534A | 申请公布日 | 2022-07-01 |
| 分类号 | G03F1/00（2012.01）I;G03F1/68（2012.01）I;G02F1/01（2006.01）I | 分类 | 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕; |
| 发明人 | 李西军 | 申请（专利权）人 | 西湖大学 |
| 代理机构 | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 | 代理人 | - |
| 地址 | 310024浙江省杭州市西湖区云栖小镇石龙山街18号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本公开涉及一种掩模版、光刻装置和掩模版的制造方法和基于掩模版的光刻方法，掩模版包括：基板，基板被配置为对用于光刻的曝光光束透光，其中，曝光光束处于第一频带中；以及光致变色层，光致变色层设于基板的一侧上且包括光致变色材料，光致变色层被配置为在具有空间结构的调制光束照射下产生对应的掩模版图案，其中，光致变色材料基于是否被调制光束中的调制光照射到而处于对曝光光束的非透光状态或透光状态，且调制光束处于与第一频带分隔开的第二频带中。 |
