用于分析氯硅烷中痕量杂质的前处理系统
基本信息
| 申请号 | CN201822083005.1 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN209690000U | 公开（公告）日 | 2019-11-26 |
| 申请公布号 | CN209690000U | 申请公布日 | 2019-11-26 |
| 分类号 | G01N1/28（2006.01）; G01N1/44（2006.01） | 分类 | 测量；测试; |
| 发明人 | 罗建文; 邱艳梅; 刘国霞; 曾凤; 罗丹; 陈星; 唐华华 | 申请（专利权）人 | 新疆新特新能材料检测中心有限公司 |
| 代理机构 | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 | 代理人 | 新疆新特新能材料检测中心有限公司 |
| 地址 | 831500 新疆维吾尔自治区乌鲁木齐市甘泉堡经济技术开发区（工业园）面广东街2499号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实施例公开了一种用于分析氯硅烷中痕量杂质的前处理系统，包括：消解罐，包括：罐体和盖设于罐体上的盖体，罐体与盖体密封连接，罐体用于盛放待处理的氯硅烷样品，盖体上开设有第一开口、第二开口；第一管道，第一管道与第一开口密封连接，第一管道的第一端穿过第一开口且位于罐体内，第一管道用于向消解罐内通入载气；第二管道，第二管道与第二开口密封连接，第二管道的第一端穿过第二开口且位于罐体内，第二管道用于输出负载有氯硅烷的载气；加热装置，其上设置有加热区，加热区用于容纳消解罐并对其进行加热。该前处理系统避免了待处理的氯硅烷样品受到二次污染，且通过载气的携带蒸发出来的氯硅烷，可减少蒸发氯硅烷的时间，提高工作效率。 |
