一种改善印刷线路板反蚀刻干膜孔破的加工工艺

基本信息

申请号 CN202111258212.6 申请日 -
公开(公告)号 CN113891568A 公开(公告)日 2022-01-04
申请公布号 CN113891568A 申请公布日 2022-01-04
分类号 H05K3/06(2006.01)I;H05K3/28(2006.01)I;H05K3/42(2006.01)I 分类 其他类目不包含的电技术;
发明人 华福德;张志敏 申请(专利权)人 高德(江苏)电子科技股份有限公司
代理机构 无锡市大为专利商标事务所(普通合伙) 代理人 殷红梅;沈燕
地址 214101江苏省无锡市锡山区锡山经济开发区春晖东路32号
法律状态 -

摘要

摘要 本发明提供一种改善印刷线路板反蚀刻干膜孔破的加工工艺,包括以下步骤:(1)制作印刷线路板内层的线路并压合;(2)钻孔;(3)电镀、制作外层线路、油墨印刷及表面处理;(4)化学清洗,一次压膜,使得印刷线路板上形成一层干膜;(5)一次曝光;(6)一次显影;(7)二次压膜;(8)二次曝光;(9)二次显影,将显影后的印刷线路板进行蚀刻,完成反蚀刻工艺。本发明的改善印刷线路板反蚀刻干膜孔破的加工工艺,是在一次压膜时先将异形导通孔中间的干膜不曝光,在显影时被显影掉,并且保留异形导通孔四周的位置至少有0.2mm的干膜覆盖导通孔的边沿,保护二次压膜的干膜不被异性导通孔的披峰刺破干膜,提高导通性能。