一种化学机械抛光头和抛光系统
基本信息
| 申请号 | CN202111209062.X | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN113878488A | 公开（公告）日 | 2022-01-04 |
| 申请公布号 | CN113878488A | 申请公布日 | 2022-01-04 |
| 分类号 | B24B37/00（2012.01）I;B24B37/20（2012.01）I;B24B37/34（2012.01）I;B24B53/12（2006.01）I | 分类 | 磨削；抛光; |
| 发明人 | 孟松林 | 申请（专利权）人 | 华海清科（北京）科技有限公司 |
| 代理机构 | - | 代理人 | - |
| 地址 | 100176北京市大兴区经济技术开发区地盛北街1号院40号楼11层1107室 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种化学机械抛光头和抛光系统，所述化学机械抛光头包括联轴盘、承载盘、弹性膜和保持环，所述承载盘通过连接膜与所述联轴盘固定，所述弹性膜通过固定压环安装于所述承载盘的底部，所述保持环设置于所述弹性膜的外周侧并位于承载盘的底部；还包括环状膜，其固定于承载盘的底部并位于弹性膜的上侧；加压后的环状膜抵压于所述弹性膜的顶部，以将环状膜施加的载荷经由弹性膜向下传递。 |
