一种抛光液供给装置和化学机械抛光设备
基本信息
| 申请号 | CN202111264391.4 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN113953968A | 公开（公告）日 | 2022-01-21 |
| 申请公布号 | CN113953968A | 申请公布日 | 2022-01-21 |
| 分类号 | B24B37/10（2012.01）I;B24B37/34（2012.01）I;B24B37/005（2012.01）I;B24B57/02（2006.01）I;B24B49/00（2012.01）I;B24B47/00（2006.01）I | 分类 | 磨削；抛光; |
| 发明人 | 梁清波;王春龙 | 申请（专利权）人 | 华海清科（北京）科技有限公司 |
| 代理机构 | - | 代理人 | - |
| 地址 | 100176北京市大兴区经济技术开发区地盛北街1号院40号楼11层1107室 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种抛光液供给装置和化学机械抛光设备，其中抛光液供给装置包括：转轴，其连接驱动机构以实现双向的自动旋转；基座组件，套设于所述转轴的外周侧，起到支撑固定作用；摆臂，其连接于所述转轴的顶部并可由转轴驱动实现双向摆动；抛光液供给管，其经由所述转轴向上延伸并沿所述摆臂的长度方向设置；限位组件，用于在工作位和维护位限定所述摆臂的位置；标尺机构，用于在所述摆臂位于工作位时指示由所述抛光液供给管流下的抛光液落点的位置信息。 |
