一种化学机械抛光装置
基本信息
| 申请号 | CN202022875338.5 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN213917712U | 公开（公告）日 | 2021-08-10 |
| 申请公布号 | CN213917712U | 申请公布日 | 2021-08-10 |
| 分类号 | B24B37/11（2012.01）I;B24B37/27（2012.01）I;B24B37/34（2012.01）I;B24B49/14（2006.01）I;B24B57/02（2006.01）I | 分类 | 磨削；抛光; |
| 发明人 | 赵德文;郑广建 | 申请（专利权）人 | 华海清科（北京）科技有限公司 |
| 代理机构 | - | 代理人 | - |
| 地址 | 100176北京市大兴区经济技术开发区地盛北街1号院40号楼11层1107室 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型公开了一种化学机械抛光装置，其包括抛光盘，其顶面配置有抛光垫；承载头，用以接收晶圆并将晶圆加载于所述抛光垫；温度调节部，其设置于抛光垫的上侧，以调节与抛光垫同心的环状区域的温度；承载头旋转并沿抛光垫的径向水平移动，以控制晶圆边缘部分与抛光垫的环状区域的接触时间，调节晶圆边缘部分的去除速率。 |
