烧结钕铁硼磁体的表面涂覆工艺和设备
基本信息
| 申请号 | CN202110774543.9 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN113593879A | 公开（公告）日 | 2021-11-02 |
| 申请公布号 | CN113593879A | 申请公布日 | 2021-11-02 |
| 分类号 | H01F41/02（2006.01）I;H01F1/057（2006.01）I | 分类 | 基本电气元件; |
| 发明人 | 胡元磊 | 申请（专利权）人 | 北京京磁电工科技有限公司 |
| 代理机构 | 北京远大卓悦知识产权代理有限公司 | 代理人 | 李文会 |
| 地址 | 101204北京市平谷区马坊工业园区西区286号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种烧结钕铁硼磁体的表面涂覆工艺和设备。该工艺包括：对涂料施加扰动，以使所述涂料液面的局部区域相对于所述局部区域的周边区域凸起；其中，所述涂料含有含稀土元素的粉末；向所述涂料传送所述磁体，使所述磁体的下表面的待涂覆部位与所述局部区域接触，从而将所述涂料涂覆于所述待涂覆部位；对涂覆有所述涂料的磁体进行热处理。基于该工艺和设备，涂料所含有的含稀土元素的粉末可以被精准且均匀地涂覆在磁体上，保证稀土元素可以均匀扩散，进而有效控制成本，提升磁体性能。 |
