负性光刻胶组合物和形成光刻胶图案的方法
基本信息
| 申请号 | CN202011598952.X | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN112731764A | 公开（公告）日 | 2021-04-30 |
| 申请公布号 | CN112731764A | 申请公布日 | 2021-04-30 |
| 分类号 | G03F7/004;G03F7/075;G03F7/16;G03F7/20;G03F7/30;G03F7/38 | 分类 | 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕; |
| 发明人 | 王晓伟 | 申请（专利权）人 | 苏州理硕科技有限公司 |
| 代理机构 | 苏州领跃知识产权代理有限公司 | 代理人 | 王宁 |
| 地址 | 215000 江苏省苏州市中国(江苏)自由贸易试验区苏州片区苏州工业园区金鸡湖大道99号苏州纳米城10幢102室 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种负性光刻胶组合物和形成光刻胶图案的方法，该负性光刻胶组合物包括：组分(1)：含有多个重复单元的树脂，所述树脂的重复单元中含有羟基基团；组分(2)：自由基发生剂；组分(3)：交联剂，交联剂采用含硅氧烷基的交联剂。本发明的负性光刻胶组合物采用含硅氧烷基的交联剂，负性光刻胶的成像性能基本无变化，但含硅氧烷的交联剂却在成像图形方面展现了良好的耐热性能，经130℃下烘烤150秒后烘后图形形状几乎不变，形状保持良好。 |
