一种正性光刻胶组合物和形成光刻胶图案的方法
基本信息
| 申请号 | CN202010452566.3 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN111538210A | 公开（公告）日 | 2020-08-14 |
| 申请公布号 | CN111538210A | 申请公布日 | 2020-08-14 |
| 分类号 | G03F7/039(2006.01)I | 分类 | - |
| 发明人 | 王晓伟 | 申请（专利权）人 | 苏州理硕科技有限公司 |
| 代理机构 | 苏州领跃知识产权代理有限公司 | 代理人 | 苏州理硕科技有限公司 |
| 地址 | 215000江苏省苏州市中国(江苏)自由贸易试验区苏州片区苏州工业园区金鸡湖大道99号苏州纳米城12幢401-88 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种正性光刻胶组合物和形成光刻胶图案的方法。该正性光刻胶组合物包括以下组分：组分(1)：含有多个重复单元的树脂，所述树脂的重复单元中含有酚羟基基团；组分(2)：光致产酸剂；组分(3)：含有乙烯基醚基团的热交联剂。其中，组分(1)和组分(3)在前烘过程中通过弱的架桥反应进行固化，与不含苯环的羟基树脂相比，本发明的组分(1)和组分(3)的成膜固化效果更好，然后再用光致产酸剂产生的光酸去切断热交联剂和树脂间的弱的化学结合，进行脱保护作用，从而使得曝光区域的树脂的碱溶性增大，可被碱性显影液洗去，从而达到曝光后光刻胶的正性成像目的。 |
