一种干膜光刻胶用显影液及其制备方法
基本信息
| 申请号 | CN202010929319.8 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN111965958A | 公开（公告）日 | 2020-11-20 |
| 申请公布号 | CN111965958A | 申请公布日 | 2020-11-20 |
| 分类号 | G03F7/32 | 分类 | 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕; |
| 发明人 | 王晓伟 | 申请（专利权）人 | 苏州理硕科技有限公司 |
| 代理机构 | 北京酷爱智慧知识产权代理有限公司 | 代理人 | 苏州理硕科技有限公司 |
| 地址 | 215000 江苏省苏州市工业园区金鸡湖大道99号苏州纳米城10栋102 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种干膜光刻胶用显影液及其制备方法，所述显影液由包括如下重量百分比的组分构成：碱源0.8％～5％、离子型表面活性剂0.05％～0.3％，余量为水；本发明显影液中通过加入离子型表面活性剂能够降低水的表面张力，能够促进显影液进入图形之间，能够充分溶解光刻胶树脂；此外，显影结束后，离子型表面活性剂能够附着于光刻胶表面，当用纯水清洗时，纯水能够顺利进入图形之间的空白区域，进而能够彻底的去除光刻胶残余物，进而能够大大提高制备芯片和面板的良品率。 |
