商标进度
商标申请
2019-12-24
初审公告
2020-07-20
已注册
2020-10-21
4
终止
2030-10-20
商标详情
| 商标 |
理
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| 商标名称 | 理硕 | 商标状态 | 商标已注册 |
| 申请日期 | 2019-12-24 | 申请/注册号 | 43315917 |
| 国际分类 | 01类-化学原料 | 是否共有商标 | 否 |
| 申请人名称（中文） | 苏州理硕科技有限公司 | 申请人名称（英文） | - |
| 申请人地址（中文） | 中国（江苏）自由贸易试验区苏州片区苏州工业园区金鸡湖大道99号苏州纳米城10幢102室 | 申请人地址（英文） | - |
| 商标类型 | 商标注册申请---受理通知书发文 | 商标形式 | - |
| 初审公告期号 | 1704 | 初审公告日期 | 2020-07-20 |
| 注册公告期号 | 43315917 | 注册公告日期 | 2020-10-21 |
| 优先权日期 | - | 代理/办理机构 | 阿里巴巴科技（北京）有限公司 |
| 国际注册日 | - | 后期指定日期 | - |
| 专用权期限 | 2020-10-21-2030-10-20 | ||
| 商标公告 | - | ||
| 商品/服务 |
半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料(0104)
半导体制造用蚀刻剂(0104)
工业用化学制剂(0104)
工业用清洁剂(0104)
光致抗蚀剂(0104)
平板印刷用化学品(0104)
摄影用感光剂(0107)
摄影用化学制剂(0107)
摄影用显影剂(0107)
实验室分析用化学制剂（非医用、非兽医用）(0106)
印刷电路板制造用蚀刻剂(0104)
印刷电路制造用化学氧化剂(0104)
制造印刷电路板用掩膜化合物(0104)
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| 商标流程 |
2019-12-24
商标注册申请---申请收文
2020-01-15
商标注册申请---受理通知书发文 |
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