一种超亮负离子釉面砖及其生产工艺
基本信息
| 申请号 | CN201810025415.2 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN108331281B | 公开（公告）日 | 2019-02-01 |
| 申请公布号 | CN108331281B | 申请公布日 | 2019-02-01 |
| 分类号 | E04F13/075;C04B35/14;C04B35/622;C03C8/00;C04B28/14 | 分类 | 建筑物; |
| 发明人 | 黄文广;刘雪芹;张伟扬;周文才;陈传颖 | 申请（专利权）人 | 广东百强陶瓷有限公司 |
| 代理机构 | 北京挺立专利事务所（普通合伙） | 代理人 | 广东百强陶瓷有限公司 |
| 地址 | 529400 广东省江门市恩平市沙湖镇蒲桥陶瓷城2号地 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种超亮负离子釉面砖，产生负离子浓度比普通釉面砖高5～10倍，同时晶体结构反射光线使得该釉面砖更显亮度。本釉面砖包括底层胚体、隔音保温层、顶层胚体、底釉层、功能层、面釉层；底层胚体和顶层胚体包括：石粉、砂、超细负离子粉体、硅藻泥、泥、陶瓷废渣碎泥、水；隔音保温层包括聚酰胺网、石棉纤维和石膏粉；底釉层包括：钾钠长石、石英、氧化铝、水洗土、烧滑石、硅酸锆、超细负离子晶体；功能层设置超细负离子晶体、活性炭、硅藻泥、玻璃微珠；面釉层包括：钾钠长石、碳酸钡、白云石、氧化锌、烧滑石、烧土、水洗土、刚玉、纳米二氧化钛、超细负离子晶体。 |
