基于大尺寸靶标的单目投影系统逐像素畸变校正方法及其应用专利查询专利号|摘要-满商公司网

基于大尺寸靶标的单目投影系统逐像素畸变校正方法及其应用

基本信息

申请号	CN201811212082.0	申请日	-
公开（公告）号	CN109285195A	公开（公告）日	2019-01-29
申请公布号	CN109285195A	申请公布日	2019-01-29
分类号	G06T7/80	分类	计算；推算；计数;
发明人	张楠楠;邢威;郭磊	申请（专利权）人	中国银行股份有限公司杭州星光大道支行
代理机构	-	代理人	-
地址	310051 浙江省杭州市滨江区滨安路1197号3幢495室
法律状态	-

摘要

本发明公开了一种基于大尺寸靶标的单目投影系统逐像素畸变校正方法及其应用，包括如下步骤：1)相机和投影仪内外参标定后，投影仪像平面某整像素发光点打光在同心圆环靶标点pt，pt在已校正过畸变的相机像平面上成像点pci；2)利用单应性矩阵求出点pci的对应点pt"，利用靶标上pt"附近多个圆心拟合小平面，认为点pt在该平面上；结合其平面方程和小孔成像原理求得pt；3)利用小孔成像原理求得发光点ppr的反投影点ppi；4)将ppi的二维坐标与投影仪图案生成函数结合求取ppi处灰度值，取整赋值给发光点ppr，完成单个像素的畸变校正；5)重复步骤1)～4)完成每个像素发光点的畸变校正。该方法投影仪投出的图案接近无畸变，能简化三维点云恢复、提高恢复精度。