一种用于激光氮化处理的氮气喷嘴及气嘴总成

基本信息

申请号 CN202020465472.5 申请日 -
公开(公告)号 CN212120422U 公开(公告)日 2020-12-11
申请公布号 CN212120422U 申请公布日 2020-12-11
分类号 B05B1/06(2006.01)I 分类 一般喷射或雾化;对表面涂覆液体或其他流体的一般方法〔2〕;
发明人 苏杰;夏凯;韦波 申请(专利权)人 重庆金樾光电科技有限公司
代理机构 重庆为信知识产权代理事务所(普通合伙) 代理人 蔡冬彦
地址 400026重庆市江北区港城西路53号附2
法律状态 -

摘要

摘要 本实用新型公开了一种用于激光氮化处理的氮气喷嘴,包括气嘴基座和气嘴外套,所述气嘴基座包括基座主体以及设置在基座主体前端部的基座内套,该气嘴基座中具有沿前后方向贯穿基座主体和基座内套的气嘴激光通道,所述气嘴外套外套在基座内套上。本实用新型还公开了一种气嘴总成,包括气嘴上接头以及氮气喷嘴。采用以上技术方案的一种用于激光氮化处理的氮气喷嘴及气嘴总成,结构新颖,设计巧妙,易于实现,能够喷出环幕般的氮气,使周边环境的空气难以串入,保证了金属表面激光熔池内以及周边金属表面氮气的高浓度和高压力,以维持氮气在金属表面激光熔池内以及周边金属表面的稳定性,从而能够稳定地生成性能优良的氮化层,确保了激光加工的质量。